近日，中國科學院長春光學精密機械與物理研究所應用光學國家重點實驗室金春水研究團隊在極紫外多層膜膜厚分布超高精度控制研究方面取得新進展：通過采用遺傳算法，實現了Φ200mm曲面基底上極紫外多層膜膜厚分布控制精度優于±0.1%，鍍膜引起的不可補償面形誤差小于0.1nmRMS，相關指標達到國際先進水平。相關結果在線發表于近期的Optics Letters(dx.doi.org/10.1364/OL.40.003958)上。
極紫外多層膜反射鏡是極紫外光刻系統的核心光學元件。極紫外光刻系統需要高性能的極紫外多層膜，包括高反射率，低應力，高穩定性和高均勻性。對于極紫外光刻系統中的投影物鏡，必須對鍍制在其上的極紫外多層膜進行超高精度的膜厚分布控制，以便實現波長匹配和減小鍍膜引起的面形誤差。
該研究團隊采用遺傳算法，完成了磁控濺射濺射源特性參數的反演和用于控制膜厚分布的公轉調速曲線的反演，避免了直接測量磁控濺射速率空間分布的繁瑣過程，減少了極紫外多層膜膜厚控制工藝的迭代次數，大大降低了獲得超高膜厚分布精度極紫外多層膜反射鏡的工藝成本。
該工作得到了“國家科技重大專項-02專項”項目經費的支持。
長春光機所極紫外多層膜膜厚分布超高精度控制研究獲進展
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