中科院上海光學(xué)緊密機(jī)器研究所周常河研究員課題構(gòu)成功研制出多路激光直寫裝配。該裝配采納405nm的藍(lán)光激光光源，僧康0.9數(shù)值孔徑的透鏡，和主動聚焦體系，完成了25路高精度并行激光直寫，刻寫光斑的線寬小于600nm。比擬于傳統(tǒng)激光直寫體系，該裝配在刻寫速率和服從方面有了很大的進(jìn)步，幾十倍地收縮了激光直寫時間，可以疾速建造大尺寸、高精度衍射光學(xué)元件。
激光束直寫技能是一種無需掩膜的光刻技能，根本事情道理是由計較機(jī)節(jié)制高精度激光束或樣品掃描，在光刻膠上或光敏質(zhì)料上刻寫出掩膜圖形。傳統(tǒng)的激光直寫裝配因為受單路激光刻寫的限定，服從低，時間長，只能利用于中、小尺寸光學(xué)器件的出產(chǎn)和制備。該裝配的樂成研制，有大概為中國的半導(dǎo)體系體例造及大尺寸微納光學(xué)加工范疇供給一種高機(jī)能、低本錢的技能手段，同時，也將鞭策我國在納米光刻，微納光學(xué)制作等范疇的進(jìn)步，對付研制我國大迷信工程、裝配和地理、航天、航空、印刷等行業(yè)所必要的大尺寸光學(xué)元件，起到踴躍的鞭策感化。
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