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3D新聞

新型光刻技術使用氧氣做抑制劑3D打印微型結構

星之球激光 來源:天工社2015-04-10 我要評論(0 )   

近日,韓國先進科學技術研究院(KAIST)化學和生物分子工程學系的一個研究團隊在Shin-Hyun Kim教授的領導下開發出了一種新型光刻


近日,韓國先進科學技術研究院(KAIST)化學和生物分子工程學系的一個研究團隊在Shin-Hyun Kim教授的領導下開發出了一種新型光刻技術,該技術主要通過氧擴散來控制形成功能性形狀的微型圖案。

光刻技術也被稱作光學光刻或UV光刻,其一些基本原理與攝像也有相似之處,主要都是通過投影曝光形成圖案。它其實是一個標準方法,即通過在光阻材料層的曝光將微型圖案轉印到襯底上,如今這種方法已經在半導體工業中得到廣泛使用。

不過在此之前,這一技術只能用于二維的設計,這是由于曝光區域和頂部區域之間的邊界是與光源的方向平行的。

然而,通過由Kim教授和他的團隊在對光刻技術的研究中發現,他們發現,暴露在UV光下的區域氧氣濃度會降低,并導致氧氣的擴散。通過控制氧氣的擴散速度和方向可以操縱其整體成型過程,包括聚合物的形狀和大小。

根據這一研究結果,研究團隊發明了一種基于光刻原理的新技術,它能夠利用氧的存在制造出微型三維結構。該技術主要利用氧氣濃度的差異引起氧氣到uv光照射區域內的擴散。最終,通過在這一過程中抑制劑的使用使得能夠制造出復雜的微型3D結構。

Kim教授和他的團隊發明的這項新技術可以用于改進3D聚合物的制造工藝,以前很多人認為它很難用于商業用途。

 “雖然3D打印被認為是一種創新型的制造工藝,但它不能被用于大規模制造微觀產品。”金教授說。“這種新型光刻技術將會在學術界和工業級產生廣泛的影響,因為現有的,傳統的光刻設備可以用于發展更為復雜的微型結構。”

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3D打印光刻技術氧氣
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